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砷化镓VGF法单晶炉
- 更新时间：2016-09-18
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陈庆建 先生（销售部经理）
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产品应用：主要用于2～6英寸锗单晶、砷化镓等化合物晶体的生长
产品特点：
◆工业计算机控制系统（WINDOWS 系统界面，操作方便简洁）
◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性
◆控温精度高，温区控温稳定性好
◆具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种保护功能
◆晶体生长均匀性好、重复性高
◆工业计算机控制系统（WINDOWS 系统界面，操作方便简洁）
◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性
◆控温精度高，温区控温稳定性好
◆具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种保护功能
◆晶体生长均匀性好、重复性高
主要技术指标
◆工作温度：600～1280℃
◆适应晶体尺寸：2～6英寸
◆装料量：10Kg/炉
◆加热控制：7段控制
◆温区长度：800mm±0.5℃（1000～1280℃）
◆大升温速率：15℃/min
◆升降行程：900mm
◆小升降速率（VB）：0.1mm/h
◆工作温度：600～1280℃
◆适应晶体尺寸：2～6英寸
◆装料量：10Kg/炉
◆加热控制：7段控制
◆温区长度：800mm±0.5℃（1000～1280℃）
◆大升温速率：15℃/min
◆升降行程：900mm
◆小升降速率（VB）：0.1mm/h
配套设备：合成炉、铸锭炉、脱氧封管炉等
